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显像液・剥离液 PK- DEX / SFR / CRD系列
显像液・剥离液 内容
【显像液】 PK-DEX系列
适用于高精细图形，拥有较宽的显像余量。
光刻胶的分散性和防再次凝集性优越，不会再次附着光刻胶，可实现长寿命化。
低发泡性，不会因发泡造成问题。
PK-DEX4000系列也适用于铝、铜。
| 产品名称 | 类型 | 特长 |
|---|---|---|
| PK-DEX1010CX | Na2CO3系 | 用于负性彩色光刻胶 液体寿命长， 可实现高精细图形 |
| PK-DEX1510 | KOH系 | 用于负性彩色光刻胶 在低浓度下使用时具有良好的显像性 |
| PK-DEX4000 | 有机系碱性 | 负性、正性显像性优越 也适用于Al、Cu |
| PK-DEX4020 | 有机系碱性 | 对应Lift-off 光刻胶的显像液 也适用于Al、Cu |
| PK-DEX4050 | 有机系碱性 | 负性、正性显像性优越
也适用于AI、Cu、AIN |
| PK-DEX4310 | 有机系碱性 | 负性、正性显像性优越
也适用于Al、Cu 水稀释类型 |
光刻胶显像示例
对铝成膜基板的影响
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PK-DEX4000/无腐蚀性
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TMAH/有腐蚀性
【剥离液】PK-SFR / CRD系列
臭气较轻，有益于改善作业环境。
光刻胶的分散性和防再凝集性优越，不会再次附着光刻胶。
PK-SFR8130干膜光刻胶专用剥离液。
| 产品名称 | 类型 | 特长 |
|---|---|---|
| PK-SFR8110 | 有机系碱性 |
标准型 可适用于Al、Cu 水稀释类型、无易燃性 |
| PK-SFR8120 | 有机系中性 | 对作业环境温和 可适用于Al、Cu 水稀释类型、无易燃性 |
| PK-SFR8130 | 有机系碱性 | 干膜光刻胶专用 可适用于Al、Cu 水稀释类型、无易燃性 |
| PK-SFR8200 | 有机系碱性 | 用于干膜光刻胶的微细剥离
强剥离性 水稀释类型，无易燃性 |
| PK-SFR8410 | 有机系碱性 | 对应厚膜负性光刻胶 |
| PK-CRD620 | 无机系碱性 | 强剥离性
最适合正性光刻胶 |
光刻胶剥离示例
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光刻胶剥离前
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光刻胶剥离后
